Directed Self-Assembly: náhrada za EUV pro < 10nm procesy?

Už mnoho let se mluví o nástupu extrémní ultrafialové litografie (EUV), která by se měla poprvé objevit v procesech pod 10 nm. Není to ale až tak jisté, neboť se objevil konkurent v podobě directed self-assembly.

Importováno: 29. Března 2017 (12:15), Svět hardware

Trvalý odkaz: http://www.svethardware.cz/directed-self-assembly-nahrada-za-euv-pro-10nm-procesy/44174